Il processo di modello di elaborazione micro-nana pricipalmente è diviso nelle due tecnologie: trasferimento del modello ed elaborazione diretta. Il raggio laser che incide la tecnologia ha capacità di scrittura diretta, evitante il processo a più gradi del trasferimento del modello e direttamente produce le microstrutture tridimensionali sul materiale controllando il raggio laser ad alta energia messo a fuoco. Ha film di submicron che incide elaborando l'accuratezza ed è adatto a vari materiali.
La fotolitografia è di trasferire il modello fatto sulla maschera di fotolitografia alla superficie del substrato. Qualunque cosa il genere di micro dispositivo sia elaborato, il micro processo d'elaborazione può essere suddiviso in uno o più cicli dei tre punti trattati del deposito, della fotolitografia ed incisione del film. La litografia è alla prima linea del processo di fabbricazione di MEMS e la sua risoluzione grafica, l'accuratezza della sovrapposizione ed altre proprietà direttamente colpiscono il successo o il guasto dei processi successivi.
la tecnologia di fabbricazione Micro-nana si riferisce alla progettazione, elaborante, l'assemblea, integrazione e la tecnologia dell'applicazione di si separa le dimensioni dei millimetri, micrometri e nanometri come pure componenti o sistemi composti di queste parti. la tecnologia di fabbricazione Micro-nana è il modo di base ed il fondamento importante per la fabbricazione dei micro-sensori, degli micro-azionatori, delle microstrutture e dei sistemi micro-nani funzionali.